真空分散乳化反应釜VR系列

均质乳化装置可直达釜底,可利用乳化头内循环乳化,原料会形成強力的循环絮流,无死角,产品可充分被混合、乳化、分散及均质,形成良好均匀分子结构。此型乳化系统较传统的乳化效果更佳。

所属分类:实验室设备

详细说明

真空分散乳化反应釜VR系列,均质乳化装置可直达釜底,可利用乳化头内循环乳化。利用高速乳化装置搭配慢速刮边的作用,原料会形成強力的循环絮流,无死角,产品可充分被混合、乳化、分散及均质,形成良好均匀分子结构。此型乳化系统较传统的乳化效果更佳。

产品特色:
> 利用高速乳化装置搭配慢速刮边的作用,原料会形成强力的循环絮流,无死角
> 夹层结构可以直接进行加热和冷却功能,冷却时内有螺旋导流板使物料冷却更充分
> 本机有安全保护装置,如真空安全装置、三相电源安全装置、夹层压力安全阀、紧急停止按钮等,确保操作安全
> 锅盖装置防水防尘投光灯及视镜,方便观察生产情况


高性能胶体磨,多种分散头供选择